PVD-tehnoloogia on füüsiline protsess materjali ülekandmiseks, aatomite või molekulide ülekandmiseks allikast substraadi pinnale. Selle tehnoloogia abil saab maatriksile väiksema jõudlusega pihustada mõningaid eriomadustega osakesi (nagu kõrge tugevus, kulumiskindlus, soojuse hajumine, korrosioonikindlus jne), et maatriksil oleks parem jõudlus. Põhilised PVD meetodid hõlmavad vaakumaurustamist, pihustamist ja ioonplaatimist. PVD-tehnoloogial on kompaktse ja ühtlase kattekihi omadused, tugev haardumine, hea katteomadus, kiire sadestumiskiirus, madal töötlemistemperatuur ja lai valik kattematerjale. Seetõttu kasutatakse PVD-tehnoloogiat pinnatöötlustehnoloogia valdkonnas laialdaselt ja see on üks parimaid valikuid. Lisaks on PVD katmisprotsess ise ka hõõgumisreaktsioon plasmavälja all kõrgel temperatuuril ja sellel on kõrge puhastusprotsess. Lisaks on PVD-toodete põhitooraineks titaanmetall, titaan on üks inimnaha suhtes kõige suurema afiinsusega metalle, mistõttu on PVD-toodetel puhas keskkonnamõju.
PVD-tehnoloogia suudab toota tuhandeid värve ja isegi jäljendada looduses leiduvaid värve. Näiteks kullaseerias on Euroopa kuld (2N18 ja 1N14), Jaapani kuld (GY01), Hiina kuld (GY2N) ja nii edasi; Kohvi seeria sisaldab tumedat kohvi, heledat kohvi, keskmist kohvi jne. Must seeria on relva värvi, hall, super must ja nii edasi; Moekollektsioonis on ruumivärvi, šampanjavärvi, khaki ja nii edasi. Seetõttu on PVD-tehnoloogial värvivalikul suur paindlikkus ja mitmekesisus. Erinevalt PVD-tehnoloogiast on vesikatte tehnoloogia traditsiooniline galvaniseerimismeetod, mis on elektrokeemilise protsessi realiseerimise viis. See kasutab plaadistuspaagis voolu toimel positiivseid ja negatiivseid elektroode, et saavutada metallist või mittemetallist kilede sadestus. Vesikattega saab tavaliselt saavutada kulla-, hõbe-, nikkel-, kroomi-, kaadmiumi- ja muid pinnakatteid, kuid selle galvaniseerimise lahendusel on suur saasteprobleem. Vesikattega katmine hõlmab ka kahte tüüpi galvaniseerimist ja elektrivaba katmist, galvaniseerimine sobib pinna kaunistamiseks, kuna see tagab suure heleduse pinna ja elektrivaba plaadistuspind on tuhmim, sobib korrosioonivastaseks katmiseks.
PVD-tehnoloogia peamised meetodid on vaakumaurustamine, pihustamine ja ioonimine. Nende hulgas on vaakumaurustamise meetod metalli kuumutamine ja sulatamine kõrgvaakumi tingimustes, nii et see aurustub ja ladestub proovi pinnale, moodustades seega metallkile. Pommitamine viitab tavaliselt magnetpohustamisele, mis nõuab umbes 1 × 10-3 Torri suurust vaakumit ja kõrgepinge alalisvoolu lisamist plastsubstraadi ja metallist sihtmärgi vahele, kasutades hõõglahendust metalli sihtmärgi aatomite väljapuhamiseks ja sadestamiseks. need plastalusele. Ioonplaatimine on meetod gaasi või aurustunud aine osaliseks ioniseerimiseks gaaslahendusega ja aurustunud aine või selle reaktsioonisaaduse sadestamiseks substraadile gaasiiooni või aurustunud aineiooni pommitamise all. Katmine on metallide lokaalse sadestamise tehnoloogia metalli tooriku pinnale kiirelektrokeemilise meetodiga, mis kuulub põhimõtteliselt ja olemuselt elektrokeemilise töötlemise tehnoloogiasse. Pindamisprotsessis sadestatakse metalliioonid katoodile galvaniseerimislahusega elektrivälja toimel, moodustades õhukese kile. Katmist kasutatakse sageli kroomimisel, nikeldamisel ja muudel rakendustel. Kokkuvõtteks võib öelda, et PVD-tehnoloogia pakub kõrgtehnoloogilist sisu, laialdaselt kasutatavat ioonkatte tehnoloogiat, millel on palju eeliseid, sealhulgas muutuv värv, tihe ja ühtlane kate, tugev nakkuvus, madal töötlemistemperatuur. Võrreldes traditsiooniliste tehnoloogiatega, nagu vesipindamine ja katmine, kasutatakse PVD-tehnoloogiat laialdaselt kvaliteetsetes ja nõudlikes toodetes ja valdkondades.
